-
Tractatio Lamellarum Aluminae Effector Finalis Semiconductor Ceramica
Impedite particulas quae ex marginibus bevelis vel angulatis et superficie posteriori generari possunt dum crustae transportantur vel cum Effectore Finali / Brachio Tractatorio in contactu sunt.
Pro ducibus, materia mollis adhibita est quae laminam non laedit.
Extenuatio fieri potest per technologiam canalium vacui inclusam in ST.CERA quae glutina non utitur.
Foramina ad figendum facere et longitudinem latitudinemque basis, ubi Effector Finalis / Bracchium Tractans in roboto affixum est, mutare licet.
Sensoria, cochleas et fulcra affigere optio praesto est.
Ad usum in atmosphaera designatum.
-
Tractatio lamellarum effectoris terminalis ceramici
Impedite particulas quae ex marginibus bevelis vel angulatis et superficie posteriori generari possunt dum crustae transportantur vel cum Effectore Finali / Brachio Tractatorio in contactu sunt.
Pro ducibus, materia mollis adhibita est quae laminam non laedit.
Extenuatio fieri potest per technologiam canalium vacui inclusam in ST.CERA quae glutina non utitur.
Foramina ad figendum facere et longitudinem latitudinemque basis, ubi Effector Finalis / Bracchium Tractans in roboto affixum est, mutare licet.
Sensoria, cochleas et fulcra affigere optio praesto est.
Ad usum in atmosphaera designatum.
-
Bracchium Tractandi Wafer Ceramic Aluminae Ceramicae Praecisionis, Ceramica Semiconductoria
Ob proprietates resistentiae altae temperaturae, resistentiae corrosionis, resistentiae abrasionis et insulationis, ceramica in multis generibus apparatuum productionis semiconductorum sub condicione altae temperaturae, vacui vel gasi corrosivi diu operari potest.
Ex pulvere aluminae magnae puritatis factus, per pressionem isostaticam frigidam, sinterizationem altae temperaturae et subtilitatem tractatus, tolerantiam dimensionum ad ±0.001 mm, polituram superficialem Ra 0.1, resistentiam temperaturae 1600℃ attingere potest.
-
Partes Apparatus Semiconductoris Bracchii Ceramici Aluminae Insulati
Impedite particulas quae ex marginibus bevelis vel angulatis et superficie posteriori generari possunt dum crustae transportantur vel cum Effectore Finali / Brachio Tractatorio in contactu sunt.
Pro ducibus, materia mollis adhibita est quae laminam non laedit.
Extenuatio fieri potest per technologiam canalium vacui inclusam in ST.CERA quae glutina non utitur.
Foramina ad figendum facere et longitudinem latitudinemque basis, ubi Effector Finalis / Bracchium Tractans in roboto affixum est, mutare licet.
Sensoria, cochleas et fulcra affigere optio praesto est.
Ad usum in atmosphaera designatum
-
Bracchium Ceramicum Tractationis Crustularum Formae Ceramicae Complexae Praecisionis
Impedite particulas quae ex marginibus bevelis vel angulatis et superficie posteriori generari possunt dum crustae transportantur vel cum Effectore Finali / Brachio Tractatorio in contactu sunt.
Pro ducibus, materia mollis adhibita est quae laminam non laedit.
Extenuatio fieri potest per technologiam canalium vacui inclusam in ST.CERA quae glutina non utitur.
Foramina ad figendum facere et longitudinem latitudinemque basis, ubi Effector Finalis / Bracchium Tractans in roboto affixum est, mutare licet.
Sensoria, cochleas et fulcra affigere optio praesto est.
Ad usum in atmosphaera designatum
-
Bracchium roboticum ceramicum aluminae cum resistentia attritionis et duritia alta
Impedite particulas quae ex marginibus bevelis vel angulatis et superficie posteriori generari possunt dum crustae transportantur vel cum Effectore Finali / Brachio Tractatorio in contactu sunt.
Pro ducibus, materia mollis adhibita est quae laminam non laedit.
Extenuatio fieri potest per technologiam canalium vacui inclusam in ST.CERA quae glutina non utitur.
Foramina ad figendum facere et longitudinem latitudinemque basis, ubi Effector Finalis / Bracchium Tractans in roboto affixum est, mutare licet.
Sensoria, cochleas et fulcra affigere optio praesto est.
Ad usum in atmosphaera designatum
-
Tractatio Lamellarum Effectoris Extremi Aluminae Ceramicae
Ob proprietates resistentiae altae temperaturae, resistentiae corrosionis, resistentiae abrasionis et insulationis, ceramica in multis generibus apparatuum productionis semiconductorum sub condicione altae temperaturae, vacui vel gasi corrosivi diu operari potest.
Ex pulvere aluminae magnae puritatis factus, per pressionem isostaticam frigidam, sinterizationem altae temperaturae et subtilitatem tractatus, tolerantiam dimensionum ad ±0.001 mm, polituram superficialem Ra 0.1, resistentiam temperaturae 1600℃ attingere potest.
-
Partes Mechanicae Ceramicae pro Apparatu Speciali
Impedite particulas quae ex marginibus bevelis vel angulatis et superficie posteriori generari possunt dum crustae transportantur vel cum Effectore Finali / Brachio Tractatorio in contactu sunt.
Pro ducibus, materia mollis adhibita est quae laminam non laedit.
Extenuatio fieri potest per technologiam canalium vacui inclusam in ST.CERA quae glutina non utitur.
Foramina ad figendum facere et longitudinem latitudinemque basis, ubi Effector Finalis / Bracchium Tractans in roboto affixum est, mutare licet.
Sensoria, cochleas et fulcra affigere optio praesto est.
Ad usum in atmosphaera designatum
-
Machinatio Praecisa et Perforatio Virgarum Ceramicarum Aluminae
Ex pulvere ceramico summae puritatis fabricata, virga ceramica per pressionem siccam vel pressionem isostaticam frigidam formatur, et sub alta temperatura sinterizatur, deinde accurate machinatur. Multa commoda praedita, ut resistentia abrasionis, resistentia corrosionis, alta duritie, magna tenacitas et coefficiens frictionis humilis, late in apparatu medico, machinis accuratis, laseribus, metrologia et apparatu inspectionis adhibetur. Diu in condicionibus acidi et alcalini operari potest, et maxima temperatura ad 1600℃ pervenire potest.
-
Alumina Ceramica Praecisionis ad Usum Personalizatum
Partes structurales ceramicae sunt vocabulum generale variarum formarum implicatarum partium ceramicarum. Formantur pressione sicca vel pressione isostatica frigida, et sub alta temperatura sinterizantur, deinde accurate machinantur.
Ex pulvere aluminae magnae puritatis factus, per pressionem isostaticam frigidam, sinterizationem altae temperaturae et subtilitatem tractatus, tolerantiam dimensionum ad ±0.001 mm, perfectionem superficialem Ra 0.1, resistentiam temperaturae 400℃~800℃ attingere potest.
-
Anulus Ceramicus Aluminae Praecisionis
Presione isostatica frigida formata et sub alta temperatura sinterizata, deinde accurate machinata et polita, partes ceramicae, ob suas proprietates resistentiae attritionis, resistentiae corrosionis, expansionis thermalis humilis, et insulationis, omnibus requisitis strictis apparatuum semiconductorum satisfacere possunt. Ceramica in multis generibus apparatuum productionis semiconductorum, sub condicione altae temperaturae, vacui vel gasis corrosivi, diu operari potest.
Ex pulvere aluminae magnae puritatis factus, per pressionem isostaticam frigidam, sinterizationem altae temperaturae et subtilitatem tractatus, tolerantiam dimensionum ad ±0.001 mm, polituram superficialem Ra 0.1, resistentiam temperaturae 1600℃ attingere potest.
-
bracchium ceramicum aluminae
Presione isostatica frigida formata et sub alta temperatura sinterizata, deinde accurate machinata et polita, partes ceramicae, ob suas proprietates resistentiae attritionis, resistentiae corrosionis, expansionis thermalis humilis, et insulationis, omnibus requisitis strictis apparatuum semiconductorum satisfacere possunt. Ceramica in multis generibus apparatuum productionis semiconductorum, sub condicione altae temperaturae, vacui vel gasis corrosivi, diu operari potest.
Ex pulvere aluminae magnae puritatis factus, per pressionem isostaticam frigidam, sinterizationem altae temperaturae et subtilitatem tractatus, tolerantiam dimensionum ad ±0.001 mm, polituram superficialem Ra 0.1, resistentiam temperaturae 1600℃ attingere potest.
